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  • 設計和制造的主要流程
    • 發(fā)布時間:2020-03-07 15:44:39
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    設計和制造的主要流程
    什么是集成電路設計? 根據(jù)電路功能和機能的要求,在準確選擇系統(tǒng)配置、電路形式、器件結構、工藝方案和設計規(guī)則的情況下,盡量減小芯片面積,降低設計本錢,縮短設計周期,以保證全局優(yōu)化,設計出知足要求的集成電路。
    設計和制造的主要流程
    設計與制備之間的接口:版圖 主要內(nèi)容 IC設計特點及設計信息描述 典型設計流程 典型的布圖設計方法及可測性設計技術 設計特點和設計信息描述 設計特點(與分立電路比擬) 對設計準確性提出更為嚴格的要求 測試題目 版圖設計:布局布線 分層分級設計(Hierarchical design)和模塊化設計 高度復雜電路系統(tǒng)的要求 什么是分層分級設計?
    將一個復雜的集成電路系統(tǒng)的設計題目分解為復雜性較低的設計級別,這個級別可以再分解到復雜性更低的設計級別;這樣的分解一直繼承到使終極的設計級別的復雜性足夠低,也就是說,能相稱輕易地由這一級設計出的單元逐級組織起復雜的系統(tǒng)。 設計的基本過程 (舉例) 功能設計 邏輯和電路設計 版圖設計 集成電路設計的終極輸出是掩膜版圖,通過制版和工藝流片可以得到所需的集成電路。一般來說,級別越高,抽象程度越高;級別越低,細節(jié)越詳細 從層次和域表示分層分級設計思惟 域:行為域:集成電路的功能 結構域:集成電路的集成電路 設計與制造的主要流程 集成電路設計與制造的主要流程框架
    引 言 半導體器件物理基礎:包括PN結的物理機制、雙極管、MOS管的工作原理等 器件 小規(guī)模電路 大規(guī)模電路 超大規(guī)模電路 甚大規(guī)模電路 電路的制備工藝:光刻、刻蝕、氧化、離子注入、擴散、化學氣相淀積、金屬蒸發(fā)或濺射、封裝等工序 集成電路設計:另一重要環(huán)節(jié),最能反映人的能動性 結合詳細的電路,詳細的系統(tǒng),設計出各種各樣的電路 引 言 什么是集成電路?(相對分立器件組成的電路而言) 把組成電路的元件、器件以及相互間的連線放在單個芯片上,整個電路就在這個芯片上,把這個芯片放到管殼中進行封裝,電路與外部的連接靠引腳完成。
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